主 要 特 點(diǎn)

API4000+LC/MS/MS 系統(tǒng)采用科技發(fā)展的成果，進(jìn)行革新性的設(shè)計(jì)，具有無(wú)可比擬的靈敏度、選擇性、重現(xiàn)性，提供更穩(wěn)定、更可靠的結(jié)果。

無(wú)可取代的高靈敏度——設(shè)計(jì)的高效率 “V 型Turbo 電離源”和新型接口提供的離子進(jìn)樣使靈敏度提高十倍。

無(wú)可比擬的耐用性與可靠性——享有盛譽(yù)的“證書(shū)氣簾技術(shù)”和創(chuàng)新的氣體動(dòng)力學(xué)設(shè)計(jì)，降低了維護(hù)需要，提高了儀器 的利用率。

更高通量性能——優(yōu)異的高流量性能、降低的離子抑制效應(yīng)、自清潔離子源探針設(shè)計(jì)和可靠的接口設(shè)計(jì)，加速了分析速度。 使用更簡(jiǎn)便——新型“V 型Turbo    電離源”使得“電噴霧電離源”和“APC 電離源”即插即用(plug-and-play)。

采用雙加熱器技術(shù)和優(yōu)化的氣體動(dòng)力學(xué)設(shè)計(jì)，提高樣品的電離效率。

電噴霧電離源允許日常使用1毫升/分鐘的流量，而無(wú)需分流、且保持同樣水平的靈敏度，真正實(shí)現(xiàn)了和常規(guī)液相色譜的聯(lián)用。 APC    電離源的快速加熱技術(shù)和新型惰性材料的采用，降低了目前常規(guī)LC-MS-MS 儀較易產(chǎn)生的高濃度樣品的“拖尾現(xiàn)象” 和“交叉污染”。

自清潔離子源探針設(shè)計(jì)，使離子源無(wú)需維護(hù)

創(chuàng)新性證書(shū)線性加速LINAC 技術(shù)保證MS/MS 強(qiáng)性能

LINAC 高壓碰撞室技術(shù)——提高了所有MS/MS 方式的靈敏度，使離子到達(dá)檢測(cè)器的傳輸效率，提高了串聯(lián)質(zhì)譜的性能。

增加結(jié)果的可靠性——LINAC 技術(shù)可有效防止MRM 實(shí)驗(yàn)中產(chǎn)生記憶效應(yīng)。

一次分析可定量更多的化合物——LINAC 技術(shù)允許在MRM 實(shí)驗(yàn)中減少測(cè)量駐留時(shí)間而不降低靈敏度。

更適合MS 和MS-MS 自動(dòng)切換掃描技術(shù) (IDA) ——LINAC 技術(shù)提高了母離子掃描和中性丟失掃描的速度、靈敏度和分辨率。

API4000+LC/MS/MS技術(shù)指標(biāo)

API 離子源

配置高效率“V 型Turbo 電離源”及TurbolonSpray 和APCl 兩種離子源探針

即插即用 (plug-and-play)

離子光學(xué)和四極桿質(zhì)量分析器

證書(shū)碰撞聚焦四極桿QO 保證離子傳輸率

證書(shū)線性加速碰撞LINAC 技術(shù)可消除記憶效應(yīng)，提高靈敏度

檢測(cè)系統(tǒng)

脈沖計(jì)數(shù)檢測(cè)器可快速進(jìn)行正/負(fù)離子檢測(cè)方式切換

動(dòng)態(tài)范圍：1-4E6cps

真空系統(tǒng)

兩級(jí)渦輪分子泵、空氣冷卻、無(wú)需維護(hù)

斷電后自動(dòng)關(guān)閉系統(tǒng)

數(shù)據(jù)處理和控制系統(tǒng)

定性和定量分析功能

可自動(dòng)進(jìn)行數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)和后處理